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马知力提醒道。
目前市面上的光刻机的光源，一般分为紫外光（uv）、深紫外光（duv）、极紫外光（euv），其中最先进的光刻机，就是尼德兰的阿斯麦公司生产的极紫外光（euv），波长为134纳米。
但是其实在上个世纪八十年代，光刻机行业之中，还有除了极紫外光（euv）路线，还存在着另一个路线——x射线光刻机。
为什么波长在10纳米以下的x射线光刻机，最后被极紫外光（euv）淘汰?
原因有两个，一是效率问题，x射线照射下光刻胶的光刻速度比较慢；二是精确度问题，为什么说波长10纳米以下的x射线，光刻精度差?因为掩模做不到10纳米以下。
掩模就是电路图的母板，为什么极紫外光（euv）的精度高，原因在于紫外光可以使用凸透镜缩小从掩模过来的光线，而所有人都知道x射线的穿透力非常强，凸透镜根本无法聚焦。
所以x射线光刻机被淘汰了。
市面上没有x射线光刻机，也就意味着没有客户。
“这个问题不是问题。”
“社长没有客户的话……”
黄明哲打断了马知力：“知道x射线光刻机为什么被淘汰吗?”
马知力点了点头。
“效率问题在于光刻胶的光敏性，如果我们研发一种可以在几秒钟内完成光刻的x射线光刻胶，那效率还是问题吗?”
黄明哲反问道。
“嗯?”
马知力一愣。
确实如同黄明哲说的那样，光刻效率问题其实就是光刻胶光敏性的影响，归根结底就是材料问题，而材料问题不恰恰就是思维社的强项?
“至于凸透镜无法聚焦x射线，我们为什么不制造一种可以聚焦x射线的凸透镜，这个同样是凸透镜材料的光敏性，材料可以改变一切。”
黄明哲笑着提醒道。
“对啊！
我怎么没有想到?”
马知力顿时瞪大眼睛。
其他人顿时也呼吸急促起来，如果他们解决了光刻胶和凸透镜的光敏性，岂不是相当于完成了x射线光刻机的缺点弥补。
而x射线光刻机的先天性优势，就是发散性低、光线集中、波长短小精悍。
“我们要完成一个独立自主的光刻机系统，就不能按部就班走西方人的老路，不然永远无法超越对方。”
黄明哲说道。
这个问题其实就是国内光刻机行业发展的拦路虎，按照西方人的路线走，别人的专利怎么绕过去?
另外光刻机的市场非常小，全世界来来去去就那么多家芯片制造企业，阿斯麦公司和这些芯片制造企业的关系千丝万缕，哪怕是造出来，估计也卖不出去。
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