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采用了浸入式光源技术以后，364纳米的光束波长被约束到了312纳米！
比之英特尔使用的350纳米技术，提升了近40纳米！
在白云天的亲自指导监督下，有李莲、华新等人直接
领导，光刻机的制造进度快得惊人，透镜、工作台子系统、光源等最大的技术难点，一一被轻松攻克。
经过两个月的技术攻关——其实就是逐步熟悉制造工艺，一台双工位，最大晶元刻蚀尺寸为200的光刻机就顺利建造完成，顺利得让所有参与制造的技术人员感觉如在做梦。
“这就做好了？”
当最后一块挡板合上，螺丝拧紧，对光刻机通电系统测试通过，白云天宣布光刻机研发成功，其他人还是不敢相信这个事实，不由窃窃私语。
连下料到解决一个个技术问题，制作出子系统，再到总装，两个月就做出一台这时代最先进的光刻机…
这可能吗？
就算国内光刻机厂家，有现成图纸、熟练工，做一台出来也不止这点时间吧。
“行不行咱们试试不就知道了。”
白云天看着众人表情，笑了笑没有解释。
有他带着一种接受了高端制造技术知识注入的新人亲自参与，两个月制造一台光刻机算什么。
要不是没有专用机床设备，哪要得了两个月！
像专门制造光刻机的asl，一年就要卖几十上百台光刻机出去。
两月一台？
这么慢的生产速度，早就破产倒闭了！
光刻掩膜板早就做好了，这是白云天、李莲亲自动手做的，达到了钢铁城当前技术极限。
掩膜并非只有一个，而是一套。
光刻是个工序多达上百道的漫长加工过程，一道工序，可能就只有极微小的改变。
逐步刻蚀掉需要加工部位的光刻胶，然后通过沉积、离子注入等方式，在硅晶元基片上生成所需的元器件、连线等不同部件。
因此整个过程是支离破碎的，每一次光刻都只针对一道工序，经由数百道工序之后，才会制造出一个包含了所有晶体管、电阻、电容等各种元器件的裸晶片。
由于工序漫长，每一道工序的掩膜必须严格对准，误差不能超过几个纳米。
否则就会出现错位，导致沉积、注入不到正确的位置，制造失败。
可想而知，掩膜版的精度要求是多么高。
从制成的掩膜版上，众人只能看到星星点点的点、和纵横交错的细线，根本不知道最终出来的电路是怎样的。
工序如此之长，当然不可能马上就得出结果。
研究人员虽然很好奇，但是他们还有别的研究工作要做，当白云天宣布光刻机研发成功，研制团队解散以后，他们也只能回到本来的岗位，继续完成上面交代下来的研究工作。
一个月后，白云天、李莲等人穿着一身连套防护服，眼看着一张亮晶晶的晶圆片完成最后一道工序，小心翼翼摆放到了他们面前。
这还只是裸晶片，还需要经过切割、封装，才是大众平常所见到的芯片。
得知众所期待的第一次试制完成，闻讯的研究人员们都放下手头工作，聚了过来。
等级较高的研究人员穿上连套防护服，进了实验室，其他的人则站在玻璃墙外，好奇地看着白云天小心托在手中的晶圆片。
“白总，这是什么集成电路？”
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