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“先別管国际上。”
赵四说，“咱们的目標是做出能用的晶片，不追求性能多好。
十微米的线条，对4位处理器来说，够不够？”
他看向陈启明。
陈启明皱眉想了想：“4004的最小线宽是8微米。
如果咱们放宽到10微米……晶片面积会大一些，但功能应该能实现。”
“那就先解决有无问题。”
赵四拍板，“王工，你带几个人，全力攻关重铬酸盐明胶。
目標是：一、配方稳定，批批能用；二、解析度儘量高；三、寿命儘量长。”
“好……我试试。”
王技术员压力很大。
“不是你一个人。”
赵四说，“林雪，你配合王工，负责测试。
每配一批胶，马上上机试，记录效果。
张卫东，你改造光刻机的曝光系统，提高紫外光强度，补偿感光度不足。”
“明白！”
“陈启明，你调整设计。”
赵四继续说，“既然工艺能力有限，咱们就把设计放宽。
线宽统一加到10微米，间距也放宽。
先保证能做出来，再谈性能优化。”
“行。”
任务分下去，车间又动起来了。
但气氛不一样了。
之前是为提高良品率奋斗，现在是为生存奋斗。
王技术员的小组当天就配了五批胶，每批配方稍有不同。
重铬酸盐浓度、明胶比例、水浴温度、搅拌时间……全都记录在案。
林雪带著人一批批试。
效果確实不理想。
有的胶涂不均匀，有的曝光后根本硬不起来，有的显影时整片脱落。
到了下午，终於有一批勉强能用。
在硅片上曝光后，能形成模糊的图案，虽然线条边缘像狗啃的一样，但至少是个图案。
“赵总工，您看。”
林雪把晶圆递过来。
赵四对著光看。
线条很粗糙，有的地方宽，有的地方窄，但连续性是好的。
“能蚀刻吗？”
“试了，能。”
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