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第267章 流片成功 文章(第1页)

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次日清晨六点,楚千澜带着周明远、钟长风驱车前往深蓝半导体。

几人刚走进车间,就看到王世杰穿着洁净服站在光刻区外等候,脸上带着熬夜后的疲惫,却难掩兴奋。

见到楚千澜一行人,王世杰立刻迎上来,手里还攥着一份流片准备报告。

“楚总!

所有设备都调试到最佳状态了!

掩模版已经完成制作,凌晨用测试硅片跑了三轮模拟流片,光刻胶涂覆均匀度稳定在986,离子注入机的束流误差控制在10以内,星象指令集动态模块的线宽误差更是压到了±0009微米,完全满足180n制程要求!”

楚千澜接过报告,目光快速扫过关键参数,“准备得很充分,没白费你们熬夜的功夫。

流片流程按计划推进,重点盯紧光刻和蚀刻环节,有任何异常第一时间反馈。”

王世杰重重点头,侧身带着几人走向洁净室,“张北光团队已经在光刻区待命,光学系统的激光功率、曝光时间都按星途eda导出的参数校准完毕,就等您一声令下启动。”

穿过消杀区域,几人走进光刻区。

巨大的光刻机已预热完毕,只等程序启动。

王世杰将提前制作好的掩模版安置好,随后看向了楚千澜。

“按流程启动。”

楚千澜点头示意。

王世杰按下启动按钮,机械臂精准抓起晶圆,缓缓送入光刻腔室。

屏幕上,电路图案在晶圆表面逐步显影。

“楚总,您看这里!”

周明远忽然指着屏幕角落的放大图,语气带着抑制不住的兴奋,“星途eda导出的光刻参数与实际显影效果完全吻合,动态模块的布线拐角处没有出现任何毛刺!”

楚千澜俯身查看,屏幕上的电路图案清晰锐利,电源模块与运算单元的连接线路平滑流畅,没有一处因光刻偏差导致的信号交叉。

他微微颔首:“星途eda对星象指令集的适配效果超出预期,这为后续更复杂的芯片研发打下了基础。”

钟长风在一旁补充道:“我们之前做过模拟测试,用星途eda设计的芯片,在时序分析环节的效率比国外工具快23,现在看来,实际流片的精度也毫不逊色。”

“楚总,第一片晶圆光刻完成!”

王世杰的声音带着一丝激动,通过对讲机传达指令,“立即转移至蚀刻区,按预设参数启动蚀刻工序!”

蚀刻区的工程师早已待命,晶圆刚送达,蚀刻机便精准喷出蚀刻气体。

屏幕上,蚀刻深度以纳米级精度逐步推进,从05微米到08微米,误差始终控制在005微米以内。”

周明远凑到监控屏前,手指在屏幕上滑动,放大查看高频信号模块的蚀刻截面:“星途eda导出的蚀刻参数太精准了!

你看这里的侧壁角度,90度垂直偏差不超过3度,比国外工具设计的还规整,这能最大限度减少信号反射损耗。”

流片程序一步接一步进行,临近中午,首批5片晶圆才走完全部流片工序。

王世杰拿着最后一片晶圆的检测报告,快步走到楚千澜面前:“楚总!

所有晶圆均通过初步电学测试,良率稳定在942!

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