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第120章 1n光刻机首测成功震撼全场(第3页)

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整个曝光过程无声无息,无任何肉眼可见光影,却在微观尺度完成了千亿级电晶体电路的精准刻画。

单次曝光结束,机台自动完成移片、对焦、二次校准,开启多重曝光叠加工艺,完美適配1nm製程的图形拼接需求。

三分钟后,首批测试晶圆曝光工序全部完成,设备自动卸载晶圆,送入后端在线检测工位。

缺陷检测机和线宽量测机瞬间启动扫描,海量微观成像数据快速刷新在大屏之上。

当最终检测结果跳出的那一刻,团队成员呼吸同时停滯。

大屏幕上清晰显示——

实测线宽:1.02nm

套刻精度:1.18nm

边缘粗糙度:≤0.45nm

微观缺陷数:0

轰!

团队瞬间炸了!

“神吶!

所有核心参数全部达到甚至超越国际商用1nm製程標准!

!”

“苏总研发的国產highnaeuv光刻机竟然成功了!

!”

“omg!

太不可思议了吧!

谁能掐我一下!

我不是在做梦吧?!

!”

不是……

成功了?

安若素和安无恙两位门外汉相视一眼,对於不懂的人来说,连是否成功都无法分辨。

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